茂名真空实验用氮气保护高温1700度立式气氛管式炉

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该系统的核心优势在于其多层复合隔热设计，通过氧化锆纤维与高纯铝箔的交替叠层结构，实现了炉膛内部1700℃高温环境下表面温度仍能控制在60℃以下。为确保实验安全性，设备配备了三重保护机制：由PLC自动监控炉内压力，当检测到氮气流量低于5L/min时触发声光报警；通过K型热电偶实时反馈温区数据，偏差超过±2℃即启动PID参数自整定程序；Zui后采用机械式泄压阀作为物理保障，确保炉内压力始终维持在0.05-0.1MPa的安全区间。

在实际操作中需特别注意石墨坩埚的预处理流程。建议在使用前进行阶梯式焙烧：以200℃/h速率升温至800℃保持2小时，待自然冷却后使用无水乙醇超声清洗。此过程可有效消除微孔中的残留气体，避免高温环境下发生基体氧化。对于特殊合金材料的烧结实验，推荐采用脉冲式充气法——每15分钟注入99.999%高纯氮气10秒，使炉内氧含量稳定控制在5ppm以下。

设备维护方面，每月应使用内窥镜检测炉管壁厚，当发现局部区域厚度低于初始值80%时必须立即更换。真空密封系统需定期涂抹专用氟橡胶润滑脂，建议在连续工作200小时后对磁流体传动装置进行氦质谱检漏。Zui新升级的V3.2控制系统已集成人工智能算法，能根据历史实验数据自动优化升温曲线，并将热效率提升至传统设备的1.8倍。

这是一款Zui高 1700℃、硅钼棒加热、高纯刚玉管、预抽真空 + 氮气（或 Ar）保护的立式气氛管式炉，专为陶瓷、单晶、电池材料、特种粉体的无氧 / 低氧精密烧结、退火与 CVD 设计，连续工作≤1650℃，控温精度 ±1℃，温场均匀性 ±5–8℃，极限真空≤10⁻³Pa，露点≤-65℃，样品自上而下装卸，密封可靠、热效率高、安全冗余完善。

核心参数与配置

关键特点

• 硅钼棒加热：1700℃下稳定，抗氧化，发热效率高，适合长时间高温运行。

• ️ 多温区控温：2–3 区独立控温，可设温度梯度，满足复杂工艺需求。

• 气氛精准：预抽真空→充氮气置换，露点≤-65℃，氧残留低，样品一致性好。

• 立式密封：法兰 + 金属密封圈，装卸样品便捷，密封可靠，适合垂直 CVD 与镀膜。

• ️ 安全冗余：超温、断偶、真空失效、过流、漏电、门限等多重保护，运行更安心。

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